Zuiverheid domineert rechtstreeks drie kernprestatie-indicatoren: weerstandslineariteit, driftstabiliteit op de lange- termijn en anti- antiverouderingsvermogen. Wanneer platinamateriaal onzuiverheden bevat, zelfs in sporenhoeveelheden, zullen deze vreemde atomen extra parasitaire weerstand introduceren en de uniforme geleidende structuur in het metaal vernietigen. Als gevolg hiervan zal de weerstandstemperatuurrelatie van het sensorelement aanzienlijk afwijken van de standaardcurve gespecificeerd door IEC 60751, wat leidt tot onomkeerbare lineaire vervorming en meetafwijking. Onder werkomstandigheden bij hoge- temperaturen is onzuiver platina gevoelig voor oxidatie, intergranulaire corrosie en materiaalsegregatie, wat de achteruitgang van de prestaties versnelt, de weerstandsdrift verergert en uiteindelijk een volledig falen van de meetnauwkeurigheid veroorzaakt.
Platina met hoge{0}}zuiverheid heeft daarentegen een zeer regelmatige en volledige atomaire rangschikking, een stabiele roosterstructuur en extreem lage interne defecten. Het handhaaft een stabiele en consistente temperatuurcoëfficiënt van weerstand (TCR) over het volledige bedrijfstemperatuurbereik, waardoor een ideale lineaire respons tussen weerstand en temperatuur wordt gegarandeerd. Ondertussen vertoont hoog-puur platina een ultieme chemische inertie en vertoont het een uitstekende immuniteit tegen oxidatie, corrosie en chemische aantasting, zelfs in ruwe omgevingen zoals hoge luchtvochtigheid, olieverontreiniging, chemische dampen en alkalische of zure media. Het reageert niet met omringende media en veroorzaakt ook geen structurele verzwakking of materiaalverslechtering na jaren van continu gebruik, waardoor de basis wordt gelegd voor ultra-lage drift en een lange levensduur.
Moderne industriële{0}} dunne- filmplatina RTD's maken gebruik van geavanceerde vacuümsputtertechnologie, die een meer uniforme verdeling van platinamoleculen en een consistentere zuiverheid over het gehele detectiegebied mogelijk maakt. Vergeleken met traditionele draad-gewonden producten bieden dunne-film-RTD's op basis van platina met hoge-zuiverheid een betere batchconsistentie, hogere maatnauwkeurigheid, stabielere elektrische prestaties en een grotere betrouwbaarheid. Dit technologische voordeel heeft dunne-film platina-RTD's tot de mainstreamoplossing gemaakt in de geautomatiseerde productie-, nieuwe energie-, HVAC-, halfgeleider- en farmaceutische industrie.
Samenvattend is de materiaalzuiverheid de doorslaggevende factor voor platina RTD-prestaties. Platinamaterialen met een lage-zuiverheid kunnen prestatiefouten nooit compenseren via een structureel ontwerp of na- kalibratie. Slechts 99,999% platina met ultra-hoge-zuiverheid kan naleving van internationale normen, uitstekende lineariteit, minimale drift op lange- termijn en uitstekend aanpassingsvermogen aan de omgeving garanderen. Voor ingenieurs en gebruikers betekent het kiezen van platina-RTD's geproduceerd met platina met een hoge-zuiverheid de keuze voor stabiele, nauwkeurige en-duurzame temperatuurmetingsprestaties, wat de kerngarantie is voor-hoge kwaliteit industriële procescontrole en systeemveiligheid.
